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          orc半導(dǎo)體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長是什么

          更新時間:2023-08-21      瀏覽次數(shù):689

          用途:

          支持多種應(yīng)用程序


          支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。

          特長:

          1. 寬帶曝光(與配方聯(lián)動的自動切換ghi線gh線,i線)。

          2. 搭載可變NA功能(0.16和0.1的可變)。

          3. 最多8個字段的條形圖設(shè)計格式。

          4. 由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學(xué)保護(hù)的光學(xué)系統(tǒng)。

            規(guī)格:


            型式PPS-8200/8300
            ウェーハサイズ6/8/12インチ
            解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
            NA(開口數(shù))0.16、0.1可変
            縮小比1:1
            Fieldサイズ52mm × 33mm
            露光波長ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動)
            レチクルサイズ6inch
            重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
            裝置サイズ/重量(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
            主要オプションバックサイドアライメントシステム
            ウェーハ周辺露光システム
            ウェーハ周辺非露光システム
            薄ウェーハ搬送システム
            GEM通信対応
            インライン対応


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